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碳納米管CVD制備系統
該設備用于制備納米碳材料,如碳納米管粉、碳納米管薄膜和定向碳納米管制備;采用封閉式管式爐,石英反應管直徑50mm/70mm~110mm*1000mm,基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;氣源包括氫氣、氮氣、甲烷、酒精等;
MPCVD是一種碳納米管化學汽相沉積綜合系統,具備一個水平石英管式爐,該系統可以穩定生產垂直對齊的CNT和各種粉末CNT。成熟的工藝保證了制備質量和數量,也可用于三維形狀的CNT制備。乙醇注入裝置配備一個滴定法流量控制系統,氣體輸入端口配備三通道質量流量氣體控制器(惰性氣體,碳氫化合物氣體,氫氣)。
真空排氣系統使得該系統能夠在一個廣泛的氣壓下運行,從大氣到低壓(10 Pa),也可用作為熱處理系統,例如:真空爐、大氣爐、氮化爐。
碳納米管CVD制備系統
相關產品:
1. 納米顆粒制備系統;
2. ZnO納米帶制備系統;
3. 碳納米管制備系統:用于高質量碳納米管制備、納米顆?;虮∧ぶ苽?、ZnO納米帶制備等;
4. 碳納米管生產系統CVD:用于粉末碳納米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等;
5. 催化劑薄膜制備系統:可沉積催化劑薄膜在各種材料上,用于高性能碳納米管的指標;
技術特點:
*成熟的碳納米材料制備工藝
*乙醇和碳氫化合物作為碳源
*用于SWCNT 合成
*具備催化劑前體供應功能
*可以合成較長長度 ( ~500 um)垂直對齊的CNT和粉末狀的CNT
*具備三通道氣體質量控制器
*體積小,基座穩定
*高溫度:1200度;
技術參數:
基底尺寸60mm*60mm到120mm*120mm;
粉末碳納米管、nanofiber, nanocoil, and film-type CNTs 等;